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佳能纳米压印技术:电路线宽2纳米产品重磅发布

2024-01-01 23:03分类: 观察 阅读:

 

12月25日消息,据可靠消息源披露,佳能高管在最近的一次采访中透露了关于纳米压印技术的惊人发展,该技术据称可生产电路线宽仅为2纳米的产品,而这一领域的独家领先地位仅由佳能一家所占有。

佳能半导体机器业务部长岩本和德解释道,纳米压印技术的核心原理是将半导体电路图刻在掩膜上,然后将其压印到晶圆上,仅需一次压印即可形成电路。通过不断改进掩膜,甚至可以实现电路线宽为2纳米的产品制造。

这项技术的应用将使客户的实际成本降低至传统光刻设备的一半,而且由于纳米压印设备的体积较小,因此在研发等方面的引入变得更加便捷。

有望造2纳米半导体!佳能:压印技术全球只有我们有

当被询问是否存在其他竞争公司时,岩本和德表示,全球范围内,只有佳能公司在半导体光刻领域进行了纳米压印设备的业务,其准入门槛相当高。

自2017年左右开始,佳能一直在与铠侠和大日本印刷等公司持续合作开发这一技术。岩本和德补充说:“目前,我们已经可以看到纳米压印技术在量产方面取得了实质性进展,我们相信不久将能够面向客户销售。”

他还表示,佳能已经收到了来自半导体制造商、大学和研究机构的许多咨询,因为引入EUV光刻设备需要巨额成本,而作为替代方案的纳米压印技术备受期待。

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